兵器材料科学与工程

2010, v.33;No.239(02) 35-37

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电弧源掺入Al、B离子改性TiN涂层性能的研究
Research on the properties of TiN coatings modified by arc source with addition of Al and B ions

刘智勇;杨润田;刘若涛;杨亚璋;

摘要(Abstract):

采用AlB12+2%AlB10电弧靶与Ti靶中频磁控溅射共沉积的工艺,在高速钢基体上形成Ti-Al-B-N多元复合涂层。电子扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)分析结果表明:涂层由TiN的柱状结构转变为TiA1BN的多层混合结构,组织更为致密均匀;通过调节电弧电流,增加Al、B元素剂量,涂层晶面取向生长增多,并逐渐出现新相。涂层的显微硬度和耐磨性测试表明,随膜层中Al、B成分的增加,膜层维氏硬度增大,耐磨性能提高。

关键词(KeyWords): 电弧源;中频磁控溅射TiAlBN涂层;TiN涂层;共沉积

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 刘智勇;杨润田;刘若涛;杨亚璋;

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