兵器材料科学与工程

2017, v.40;No.282(03) 1-6

[打印本页] [关闭]
本期目录(Current Issue) | 过刊浏览(Past Issue) | 高级检索(Advanced Search)

模具自由曲面变轨迹抛光技术研究
Variable trajectory polishing technology for free-form surface mould

吴晓君;马长捷;陈竹;祁玫丹;

摘要(Abstract):

针对模具自由曲面抛光效率低、磨粒抛光轨迹均匀性差的问题,提出一种变轨迹弹性抛光轮技术。介绍了弹性抛光轮工具的工作原理与机械结构设计,以Preston方程结合赫兹接触理论为指导,对抛光接触区内的压力分布、速度分布和磨粒抛光轨迹均匀性进行研究,建立抛光工具的材料去除模型。基于运动学模型,利用Matlab对弹性抛光轮工具在不同转速比下的抛光轨迹进行仿真,并根据均匀性评价标准对仿真结果进行对比分析。结果表明:转速比对磨粒抛光轨迹均匀性有重要影响,在下压量为0.5 mm、抛光接触圆直径为5 mm、公转3周时,转速比为10.645 751的CV值比转速比为10时降低了32%;当转速比趋于无理数时,抛光轨迹均匀性明显优于整数转速比,去除函数更加饱满。

关键词(KeyWords): 变轨迹抛光技术;弹性抛光轮工具;去除函数;抛光轨迹均匀性

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金(51375361)

作者(Author): 吴晓君;马长捷;陈竹;祁玫丹;

Email:

DOI:

参考文献(References):

扩展功能
本文信息
服务与反馈
本文关键词相关文章
本文作者相关文章
中国知网
分享