兵器材料科学与工程

2011, v.34;No.249(06) 90-92

[打印本页] [关闭]
本期目录(Current Issue) | 过刊浏览(Past Issue) | 高级检索(Advanced Search)

高频等离子体法制备纳米氧化铋
Preparation of nano-Bi_2O_3 by high-frequency plasma

高跃生;黎明;张瑜;王翔;许发玲;郭军;

摘要(Abstract):

采用高频等离子体为热源,以普通微米级氧化铋粉体为原料制备高纯氧化铋纳米粉末。用X射线衍射仪、透射电镜和X射线小角散射法(SAXS)对高纯氧化铋纳米粉结构、形貌、粒度及其分布进行表征;用BET吸附法测定比表面积,并测定其红外和紫外吸收性能。结果表明,高频等离子体法制备纳米氧化铋为正方晶系的Bi2O3,中位粒径17.5 nm,粒径范围分布在1~50 nm,比表面积为47.73 m2/g,禁带宽度为2.25 eV。

关键词(KeyWords): 高频等离子体法;氧化铋;气相冷凝;纳米粉体

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 高跃生;黎明;张瑜;王翔;许发玲;郭军;

Email:

DOI: 10.14024/j.cnki.1004-244x.2011.06.019

参考文献(References):

扩展功能
本文信息
服务与反馈
本文关键词相关文章
本文作者相关文章
中国知网
分享