高频等离子体法制备纳米氧化铋Preparation of nano-Bi_2O_3 by high-frequency plasma
高跃生;黎明;张瑜;王翔;许发玲;郭军;
摘要(Abstract):
采用高频等离子体为热源,以普通微米级氧化铋粉体为原料制备高纯氧化铋纳米粉末。用X射线衍射仪、透射电镜和X射线小角散射法(SAXS)对高纯氧化铋纳米粉结构、形貌、粒度及其分布进行表征;用BET吸附法测定比表面积,并测定其红外和紫外吸收性能。结果表明,高频等离子体法制备纳米氧化铋为正方晶系的Bi2O3,中位粒径17.5 nm,粒径范围分布在1~50 nm,比表面积为47.73 m2/g,禁带宽度为2.25 eV。
关键词(KeyWords): 高频等离子体法;氧化铋;气相冷凝;纳米粉体
基金项目(Foundation):
作者(Author): 高跃生;黎明;张瑜;王翔;许发玲;郭军;
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DOI: 10.14024/j.cnki.1004-244x.2011.06.019
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