兵器材料科学与工程

2000, (03) 63-70

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等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展
DEVELOPMENT IN PROCESS OF PLASMA VAPOURDEPOSITION COATINGS

马胜利,徐可为

摘要(Abstract):

等离子体化学气相沉积 (PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了近年来 PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状、存在问题及发展趋势

关键词(KeyWords): PCVD硬质膜;工艺;结合强度;研究进展

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家 8 63计划!( 7150 0 80 0 60 );;西安交通大学博士基金 !( DFXJU1999- 7)

作者(Author): 马胜利,徐可为

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参考文献(References):

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