兵器材料科学与工程

2009, v.32;No.233(02) 63-67

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等离子体技术对钽粉杂质含量降低作用机制
Mechanism of decreasing impurity content of Ta powder by induction plasma technology

尚福军;黄伟;史洪刚;田开文;吴红;

摘要(Abstract):

为摸清连续式、感应等离子体粉体制备技术对电容器级钽粉杂质含量水平的降低作用机制,进行不同原料粉体针对同一等离子工艺和不同等离子工艺参数针对同一粉体的制备试验,并对比分析不同原料处理前后钽粉的杂质含量和不同等离子工艺处理后钽粉的杂质含量。结果表明,感应等离子体技术制备对降低电容器级钽粉的杂质含量具有显著作用,与国家有色金属工业标准YS/T573—2007中比电容最高的牌号为FTa-120K钽粉的杂质含量对比分析发现,氧质量分数降低20%以上,碳、钾、钠元素的质量分数降低90%以上;等离子体与原料粉体的耦合作用越强,对粉体杂质含量的降低效果越明显。

关键词(KeyWords): 感应等离子体;电容器级;纳米;钽粉;杂质含量;机制

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 尚福军;黄伟;史洪刚;田开文;吴红;

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