兵器材料科学与工程

2009, v.32;No.v.32(04) 4-7

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热氧化温度对非平衡磁控溅射TiN镀层的影响
Influence of oxidation temperature on microstructure and properties of unbalanced magnetron sputtered TiN coatings

梁戈;白力静;蒋百灵;

摘要(Abstract):

通过SEM和XRD法,研究不同热氧化温度下闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的TiN镀层形貌、相结构及性能的变化。结果表明:非平衡磁控溅射离子镀TiN镀层在700℃以下性能基本稳定,具有良好的热氧化性能,尽管600℃时生成少量TiO2相,但600℃之前断口形貌及组织结构保持稳定;700℃时镀层的单位质量氧化增重率迅速增加,氧化曲线出现拐点,镀层失效。

关键词(KeyWords): TiN镀层;热氧化;非平衡磁控溅射

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家“863”科技攻关项目(2005AA33H010);; 西安理工大大学科研基金项目(101-210603)

作者(Author): 梁戈;白力静;蒋百灵;

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