用于制备纳米多层膜的金属掩膜法的研究Study on metallic mask method for preparing nano-multilayers
由臣,赵燕平,孙永昌,王玉红,刘技文
摘要(Abstract)：
简介了现有金属腌膜法制备纳米多层膜的过程,指出采用定位图形套准模板存在的弊端,研制出采用定位框固定基片、套准模板的制备新方法及装置。试验表明,采用该方法可显著提高制备纳米多层膜的完好率及套准精度。
关键词(KeyWords)： 纳米多层膜;定位框;套准;模板
基金项目(Foundation): 天津市高等学校科技发展基金(01-20216)
作者(Author): 由臣,赵燕平,孙永昌,王玉红,刘技文
Email:
DOI:
参考文献(References)：
- [1] 薛钰芝.多层膜的研究进展[J].大连铁道学院学报,1994,15(3) :70-73．
- [2] 由臣,等.用于制备磁隧道结的模板套准方法及装置[J].新技术新工艺,2003,186:45-46．
- [3] 田民波,等.薄膜科学与技术手册(上册)[M].北京:机械工业出版社,1991．
- [4] Miyazaki T,Tezuka N. Giant magnetic tunneling effect in Fe/Al_2O_3/Fe junction[J]. Journal of Magnetic Materials, 1995, 139:231--234．
- [5] 白海力,姜恩永.磁隧道结[J].科学通报,2001,46(2) :38-41．