兵器材料科学与工程

2002, (05) 37-39+51

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钛酸铋薄膜退火时间的研究
Study of RTA time of Bi_4Ti_3O_(12) thin films

苏学军,李岩,张金春

摘要(Abstract):

采用金属有机化学气相沉积工艺和快速退火工艺 ,在硅 (10 0 )基片上制备高度择优取向的Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜 ,运用X射线衍射术分析薄膜材料的结构 ,通过测量材料的电滞回线和漏电流密度 ,研究快速退火对Bi4 Ti3 O12 薄膜电性能的影响。在优化的工艺条件下 ,Bi4 Ti3 O12 铁电薄膜的剩余极化强度 (Pr)为 8μC/cm2 ,漏电流密度为 10 -11A/cm2 。

关键词(KeyWords): 快速退火;铁电薄膜;金属有机化学气相沉积;X射线衍射

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 苏学军,李岩,张金春

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