兵器材料科学与工程

1998, (01)

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循环氩离子轰击-等离子体增强化学气相沉积 TiN 膜组织与性能研究
STRUCTURE AND PROPERTIES OF REPEATED Ar + BOMBARDMENT-PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION(PECVD) TiN FILMS

谢飞,袁军伟,何家文

摘要(Abstract):

分析对比了常规PECVDTiN膜与循环氩离子轰击-PECVDTiN膜组织与性能的差异。结果表明,循环氩离子轰击-PECVDTiN膜较之常规PECVDTiN膜,其组织细小致密,膜内残余氯含量显著降低,膜的硬度与耐磨性提高,但膜-基体结合强度没有显著改变。

关键词(KeyWords): PECVD,TiN,循环Ar~+轰击,组织,性能

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 国家自然科学基金

作者(Author): 谢飞,袁军伟,何家文

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