兵器材料科学与工程

1999, (06) 35-39+43

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双离子束辅助沉积TiN薄膜的微观结构及力学性能
MICROSTRUCTURE AND MECHANICAL PROPERTIES OFTITANIUM NITRIDE THIN FILMS SYNTHESIZED BY DUAL IONBEAM ASSISTED DEPOSITION

向伟,方仁昌,李文治

摘要(Abstract):

采用双离子束辅助沉积技术制备了TiN 薄膜,并用XPS、XRD、SEM、TEM 和努氏显微硬度计等对薄膜进行了分析测试,结果表明,在溅射沉积的同时,N+ 离子的轰击使TiN薄膜主要沿(200)取向择优生长;离子的轰击也使TiN 薄膜的表面形貌发生显著的变化,随着轰击N+ 离子能量的增加,TiN 薄膜的晶粒增大。在盘铣刀片上沉积TiN 改性薄膜后,其使用寿命大大提高

关键词(KeyWords): 离子束辅助沉积;TiN;微观结构;力学性能

Abstract:

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基金项目(Foundation):

作者(Author): 向伟,方仁昌,李文治

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