兵器材料科学与工程

2018, v.41;No.290(05) 78-81

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硫化和硒化对Cu/Sn/ZnS预置层薄膜结构和性能的影响
Effect of sulfurization and selenization on structure and properties of Cu/Sn/ZnS preset thin film

孙亚明;薛晓晶;王志群;王嘉欣;华中;

摘要(Abstract):

采用磁控溅射法沉积Cu/Sn/ZnS预置层薄膜,经硫化和硒化热处理制备Cu_2ZnSnS_4和Cu_2ZnSnSe_4薄膜,研究两种热处理方式对薄膜的结构、形貌及性能的影响。结果表明:硫化和硒化热处理制备的Cu_2ZnSnS_4和Cu_2ZnSnSe_4薄膜均为单一锌黄锡矿结构;两种薄膜表面及横截面的颗粒致密且均匀,硒化后薄膜的颗粒尺寸和横截面的附着力均优于硫化后的;预置层经硫化及硒化热处理后薄膜的带隙分别为1.58、1.43 e V,硒化后薄膜的带隙明显小于硫化后的。

关键词(KeyWords): 磁控溅射;硫化;硒化;薄膜

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation): 吉林师范大学博士科研启动项目(2015016)

作者(Author): 孙亚明;薛晓晶;王志群;王嘉欣;华中;

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