兵器材料科学与工程

1995, (04)

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靶功率对PEMSIP法TiN涂层相组成的影响
INFLUENCE OF TARGET POWER ON COMPONENT PHASES OF TiN COATING DEPOSITED BY PLASMA ENHANCED MAGNETRON SPUTTER ION PLATING

王玉魁,高路斯,韩会民,徐卫平

摘要(Abstract):

随着靶功率减小等离子体增强磁控溅射离子镀(PEMSIP)TiN涂层的相组成朝着富氮相及其含量增加的方向发展。靶功率对膜层硬度的影响主要是膜层相组成变化而引起的,由Ti_2N和TiN两相组成的膜硬度最高。由Ti_2N和TiN两相组成的刀具涂层使切削力下降,明显提高刀具耐用度。

关键词(KeyWords): 等离子体增强,磁控溅射,TiN涂层

Abstract:

Keywords:

基金项目(Foundation):

作者(Author): 王玉魁,高路斯,韩会民,徐卫平

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